您好,歡迎進(jìn)入天津中環(huán)電爐股份有限公司網(wǎng)站!
一鍵分享網(wǎng)站到:

相關(guān)文章 / Related articles

產(chǎn)品中心Products 當(dāng)前位置: 首頁> 產(chǎn)品中心 > CVD系統(tǒng)/PECVD系統(tǒng) >
  • CVD管式爐
    時(shí)間:2024-08-27生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:6731

    CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

    查看詳細(xì)介紹
  • 1200℃滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:8289

    PECVD系統(tǒng)配置:1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)

    查看詳細(xì)介紹
  • 1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-08-27生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:6992

    CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn),CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

    查看詳細(xì)介紹
  • 1200℃預(yù)加熱滑動(dòng)雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-05-09生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:21795

    PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。

    查看詳細(xì)介紹
  • 1200℃滑動(dòng)式單溫區(qū)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)CVD系統(tǒng)
    時(shí)間:2024-10-28生產(chǎn)地址:天津廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家瀏覽量:5309

    產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

    查看詳細(xì)介紹
共 16 條記錄,當(dāng)前 1 / 4 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉(zhuǎn)到第頁 
掃一掃 關(guān)注我們
掃一掃 加微信
版權(quán)所有 © 2024 天津中環(huán)電爐股份有限公司  ICP備案號(hào): 津ICP備18009408號(hào)-2